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普通的CCD由于柵極對(duì)紫外區(qū)元素有著強(qiáng)烈的吸收導(dǎo)致這些元素的量子效率低，所以需要鍍熒光物質(zhì)（變頻膜）來增強(qiáng)量子效率。

大部分廠家都是鍍膜的，提高對(duì)紫外區(qū)元素的靈敏度，但是有些是沒有鍍膜的，檢測紫外元素也還是不錯(cuò)，要綜合考慮到光室，光柵等。

鍍一層紫外熒光模，不同熒光膜，量子效率也不一樣。如果是有機(jī)膜，壽命可能不長。背照式的，不鍍膜。

下面我們來看看光學(xué)鍍膜有哪些方式與方法。

第一種類型是抗反射鍍膜，這種鍍膜可以用來降低光學(xué)元件表面的一些不必要反射，從而增加光學(xué)元件的透光率，攝影鏡頭的鍍膜就屬于這個(gè)范疇;

第二種類型是高反射鍍膜，它與抗反射鍍膜的原理正好相反，是用來在物體的表面產(chǎn)生鏡面效果，最高可以反射99.99%以上的入射光;

第三種類型是透明導(dǎo)電鍍膜，是一種既能導(dǎo)電又在可見光范圍內(nèi)具有高透明率的一種薄膜，透明導(dǎo)電薄膜主要用于光電器件(如LED，薄膜太陽能電池等)的窗口材料。

CCD直讀光譜儀光學(xué)零件

鍍膜控制穿過光學(xué)干涉機(jī)制的反射光和透射光。當(dāng)兩個(gè)光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時(shí)，波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位(180°位移)時(shí)，其疊加會(huì)導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng)，導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱為建設(shè)性和破壞性的干涉。

光的波長和入射角通常是指定的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會(huì)影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長度，并將在光透射時(shí)改變相位值。這種效應(yīng)可簡單地通過單層增透膜例子說明。

當(dāng)光傳輸穿過系統(tǒng)時(shí)，在鍍膜任一側(cè)的兩個(gè)接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了使反射最小化，當(dāng)兩個(gè)反射部分在第一界面處結(jié)合時(shí)，我們希望它們之間具有180°相位差。這個(gè)相位差異直接對(duì)應(yīng)于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學(xué)厚度設(shè)置為λ/4獲得最佳實(shí)現(xiàn)。

折射率不僅影響光路長度(以及相位)，也影響每個(gè)界面的反射特性。反射率通過菲涅爾公式定義，其反射率與界面兩邊材料的折射率之差息息相關(guān)。

必須考慮到的最后一個(gè)參數(shù)是膜層的入射角。如果光的入射角改變，則每層的內(nèi)角和光程長度都將受到影響;這將影響反射光束的相位變化量。使用非一般入射時(shí)，S偏振光和P偏振光將從每個(gè)界面互相反射，這將導(dǎo)致兩個(gè)偏振光具有不同的光學(xué)性能。偏振分光計(jì)就是基于這一原理設(shè)計(jì)的。

光學(xué)鍍膜所涉及的制造工藝是勞動(dòng)和資本密集型的，并且十分耗時(shí)。影響鍍膜成本的因素包括被鍍膜的光學(xué)件的數(shù)量，類型，尺寸，需要鍍多少層膜以及光學(xué)件上需要鍍膜的表面數(shù)量。鍍膜采用的沉積工藝對(duì)鍍膜成本以及鍍膜性能方面的影響也十分巨大。此外，在這之前還需要做大量的準(zhǔn)備工作，以確保每個(gè)鍍膜光學(xué)件的質(zhì)量都能達(dá)到最高水平。不同的鍍膜沉積技術(shù)，具有各自的優(yōu)缺點(diǎn)，以上是關(guān)于光學(xué)元件光學(xué)鍍膜的知識(shí)。